日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

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產品名稱: 日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

產品型號: VE-2012

產品特點: 日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統
VE-2012是一種簡單的真空氣相沉積系統，它繼承了VE-2030（由我們公司制造）的概念。

日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統 的詳細介紹

日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

通過在外殼中內置TMP來實現緊湊的外殼。由于它是臺式機類型，因此不會占用空間。RP被放置在地板上。
我們以低價提供帶有小TMP + RP排氣系統的清潔，高真空氣相沉積設備。一個簡單的操作系統，消除了復雜的排氣操作，僅打開和關閉開關。
可以使用鎢筐沉積金，鋁，鉻，銀等。對于碳氣相沉積，使用了一種鉗式氣相沉積槍型，它會隨著碳的蒸發而蒸發鋒利的鉛筆型替換芯。（不能使用Φ5mm碳棒。）

購買時，我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購買其他電極。

碳蒸鍍電極

Φ0.5mm碳蒸鍍電極，僅用于碳。
它能夠在高真真空區中沉積碳，并且可以形成具有優異膜質量和膜強度的碳膜。
附帶的防污蓋可醉大程度地減少碳蒸氣沉積的擴散范圍，并減少清潔負擔。
建議使用碳SLC-30作為碳氣相沉積源。

金屬氣相

沉積電極這是專門用于鎢筐的金屬氣相沉積電極。
可以輕松地沉積金，鋁，鉻等。隨附的防污罩可醉大程度地減少氣相沉積范圍，并減少清潔負擔。

主要產品規格

項目	規范
電源	AC100V（單相100V15A）
裝置尺寸	寬400毫米，深425毫米，高546毫米（設備重量25千克）
旋轉泵（外部）	排氣速度50?/ min（G-50DA）（重量11kg）
渦輪泵（內置裝置）	排氣速度67?/秒
樣品臺	直徑72毫米
沉積源-樣品臺間距	可在0毫米至140毫米范圍內調節

關于選項

2018.11.01

選配

對于氣相沉積設備，我們為各種實驗應用提供大量選擇。此選項是一個正常的示例。我們也接受根據客戶所需規格的修改，因此請與我們聯系。VE-2012 ...

日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統

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