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densoku渦流膜厚儀的原理分析
densoku渦流膜厚儀的原理分析
當(dāng)帶有高頻電流的探頭（探針線圈）靠近金屬時(shí)，金屬表面會(huì)產(chǎn)生渦流。
這種渦流受高頻磁場(chǎng)的強(qiáng)度和頻率、金屬的導(dǎo)電性、厚度、形狀等影響，穿透深度和大小不同。
然后渦流流動(dòng)以抵消探頭的高頻磁場(chǎng)，改變探頭的高頻電阻值。
這種高頻電阻變化的幅度一般與膜厚值不成正比。
通過參考內(nèi)置或用戶創(chuàng)建的特性曲線（校準(zhǔn)曲線）轉(zhuǎn)換為薄膜厚度值。
渦流膜厚測(cè)試儀特點(diǎn)
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幾乎可以測(cè)量金屬上的所有薄膜（鋁、鋅、鉻等上的氧化膜，鐵上的電鍍和涂漆）
或非金屬上的幾乎所有金屬薄膜（塑料上的電鍍等）。 -
非常適合 檢查，因?yàn)樗梢栽诙虝r(shí)間內(nèi)（1 秒內(nèi)）進(jìn)行非破壞性測(cè)量。
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也可以測(cè)量曲面、球面、管道內(nèi)表面（φ12.7 mm或更大）。
使用示例
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測(cè)量樹脂上的鋁薄膜。示例：應(yīng)用于汽車前照燈反射器的鋁沉積（從 100 納米起）的質(zhì)量控制。
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鋁上氧化鋁膜厚度測(cè)量
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鐵上鍍鋅的膜厚測(cè)量（與熒光X射線膜厚儀結(jié)合使用）
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陶瓷鍍鎳的厚度測(cè)量
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